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2011-12

ガス吸着・脱離挙動による多孔質材料の表面機能評価


概要

ガス吸着脱離挙動による多孔質材料の表面特性の評価
触媒材料や電極材料の設計・開発に活用できる



保有技術・設備

昇温脱離ガス分析装置
吸着ガスの昇温脱離過程を解析することで、多孔質材料の吸着・触媒特性などを評価

装置名:TPD-R(株式会社リガク)

測定質量範囲:1-200amu

加熱温度範囲:室温〜1200℃

昇温速度:最大100℃/min.

測定雰囲気:NH3, NOx等

測定例
ガス吸着強度を分析可能


適用分野




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