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2012-13

ガス吸着・脱離挙動による多孔質材料の表面機能評価


技術のポイント

ガス吸着脱離挙動による多孔質材料の表面特性の評価
触媒材料や電極材料の設計・開発に貢献



保有技術・設備

昇温脱離ガス分析装置
吸着ガスの昇温脱離過程を解析することで、多孔質材料の吸着・触媒特性などを評価

装置名:TPD-R(株式会社リガク)

測定質量範囲:1-200amu

加熱温度範囲:室温〜1200℃

昇温速度:最大100℃/min.

測定雰囲気:NH3, NOx等

測定例
ガスセンサ検知極材料
ガス吸着強度を分析可能
He雰囲気にてブランク測定

NO (5000ppm) 吸着、(30 min, 25℃)

He置換(1h)

NO-TPD測定(He雰囲気)
吸着ガスの結合強度解析
センサ応答との関連性評価


適用分野




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