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T-2
2016

新規材料開発・研究に貢献するセラミックス製造技術


技術のポイント

これまでに培った原料調製から焼結までの高度な技術と保有する多様な装置により、セラミックスの材料開発に貢献する



保有技術・設備

振動流動乾燥
スプレードライヤー
CIP
スラリーを振動させて乾燥することで、
乾燥後の粉末凝集を緩和可能
少量のスラリーから収率良く
乾燥粉末を回収可能
バッチ式処理のため、
乾燥粉末への異物混入が防止可能
コンパクトで少量実験に最適
大気、不活性雰囲気での乾燥が可能
防爆仕様(窒素ガス雰囲気)で
アルコール溶媒にも対応可能
最大245MPaまで加圧可能
大型品および小型品の大量処理が可能
(処理室φ300mm×300mmH)
加圧後の減圧コントロールにより、
処理品の割れを防止

雰囲気焼結炉
ホットプレス焼結炉
HIP
不活性ガスの加圧雰囲気が可能
最高圧力:0.9MPa
最高2000℃まで加熱可能
真空中で加熱もが可能
炉内寸法(最大)φ330×500mmH
最大10tのホットプレス処理が可能
不活性ガスの加圧雰囲気が可能
最高圧力:0.9MPa
最高2000℃まで加熱可能
真空中で加熱も可能
高圧ガス雰囲気の等方圧加圧
および高温加熱処理が可能
・最高圧力:186MPa
・最高温度:1800℃
処理容器:φ100mm×200mmH


適用分野

● 原料粉末に焼結助剤・バインダー等の添加剤を加えた複合粉末の作製
● 各種形状の成形および等方圧加圧成形による成形体の作製
● 高温ガス中および真空中での雰囲気焼結およびホットプレス焼結
● 高温高圧の等方圧加圧処理による高緻密焼結体の作製



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