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メールマガジン 最新号

 
JFCC メールマガジン 第327号【7月11日号】
 メールマガジンご登録者 各位

  いつもJFCCメールマガジンをお読みいただきありがとうございます。
  7日に開催したJFCC研究成果発表会東京会場には多くの方のご参加をいただきありがとうございました。
 今週13日金曜日には名古屋会場での開催です。当日参加も歓迎いたしますので、ぜひお越しください。


 ● ピックアップ ● JFCC研究成果発表会 発表テーマのご紹介
            ①酸素トレーサーを用いた酸素透過法による保護膜中の物質移動機構
            ②超高分解能STEM像を用いたLiイオン濃度分布解析技術の開発

 トピックス1■ JFCC研究成果発表会開催のご案内【今週開催 7月13日(金)名古屋会場】

 トピックス2■ プレスリリースHP掲載のお知らせ

 トピックス3■ 第24回ナノ構造研究所材料計算セミナー開催のご案内【8月7,8日開催】




 ● ピックアップ ● JFCC研究成果発表会 発表テーマのご紹介



 7月13日に名古屋、20日に大阪で開催するJFCC研究成果発表会での発表内容の一部をご紹介します。

①酸素トレーサーを用いた酸素透過法による保護膜中の物質移動機構

・Yb2Si2O7は次世代航空機エンジン用耐熱部材の高温酸素/水蒸気環境下における保護膜として期待されています。
この材料は高温の酸素濃度勾配下において、高酸素分圧側の加湿により、優れた酸素遮蔽性を発現しますが、
その機構は不明でした。
 JFCCでは、酸素トレーサーを用いて、モデル保護膜に対して、高温加湿環境下の酸素透過試験を実施し、
膜中の物質移動量を定量的に評価しました。


②超高分解能STEM像を用いたLiイオン濃度分布解析技術の開発

・Liイオン二次電池の開発を促進させるために、Liイオン分布を観察する技術構築が必要不可欠です。
従来の電子エネルギー損失分光法等の手法では電子線損傷により、原子分解能レベルでのLiイオン濃度分布解析が困難
でした。
 JFCCでは、電子線損傷が少ないHAADF STEM法により超高分解能でのLiイオン濃度分布変化の解析を可能としました。


★これらの成果は研究成果発表会にて口頭発表いたします。ぜひご参加下さい。

◯名古屋会場  2018年7月13日(金) @愛知県産業労働センター ウィンクあいち 2F大ホール&5F小ホール
◯大阪会場  2018年7月20日(金) @梅田スカイビル タワーウェスト36F スペース36L、36R


 研究成果発表会の詳細はトピックス1をご覧下さい。 ↓↓↓





 トピックス1■ JFCC研究成果発表会開催のご案内【今週開催 7月13日(金)名古屋会場】



 7月6日の東京会場では165名の方に参加いただき、盛況のうちに終了することができました。
ご参加の皆様ありがとうございました。

 研究成果発表会では、『未来社会を創出する革新材料開発と先端解析技術』をテーマに、口頭発表・ポスターセッション
により最新の研究成果を発表するとともに、各界の著名な先生方にご講演をいただきます。
 
 今週末7/13は名古屋会場、7/20は大阪会場での開催です。ぜひご参加下さい。


 参加の申し込みおよび発表の詳細はこちらをご覧下さい。

 ⇒  http://www.jfcc.or.jp/26_event/#18seika


○名古屋会場
 2018年7月13日(金)13:00〜
  愛知県産業労働センター「ウインクあいち」
       特別講演 名古屋大学 副総長 教授 財満 鎭明 氏
       講演題目 オープンイノベーションを目指した名古屋大学の取組み

○大阪会場
 2018年7月20日(金)13:00〜
  梅田スカイビル「スペース36L及びR」
       特別講演 京都大学 教授 田中功 氏
       講演題目 マテリアルズ・インフォマティクスによる新材料の開拓


*参加費は全て無料です。
*会場へのアクセス方法はホームページに掲載しています。

  ⇒ http://www.jfcc.or.jp/26_event/#18seika





 トピックス2■ プレスリリースHP掲載のお知らせ



 JFCCの研究成果についてプレスリリースを行い、その内容をHPに掲載しました。
また、これらの内容はJFCC研究成果発表会で発表いたします。


◯高感度電子線ホログラフィーを用いて、GaNナノワイヤー内部のドーパント分布の観察に成功
  〜 次世代デバイスの評価技術確立の貢献 〜

・窒化ガリウム(GaN)ナノワイヤーは、次世代デバイスの材料として近年盛んに研究が行われています。
GaNナノワイヤーをデバイスとして使用するには、結晶中に不純物(ドーパント)を設計どおり分布させる必要があります。
従来の透過電子顕微鏡(TEM)では撮影像のコントラスト変化を読み取ることでドーパント分布をとらえるのは困難でした。
 JFCCでは、ドーパント分布に起因した電場をとらえられる電子顕微鏡法の一種である電子線ホログラフィーの
検出感度を3倍、空間分解能を8倍にした位相シフト電子線ホログラフィーを独自開発し、コントラストの濃淡をはっきりと
確認することに成功しました。


◯GaNの結晶欠陥を大面積且つ非破壊で検出・分類する方法を開発
  〜 青色LEDから電力制御素子まで、GaN結晶の高品質化を加速 〜

・窒化ガリウム(GaN)は次世代のパワーデバイス用材料の有力な候補として注目を集めています。
ところが、現行の製法によるGaN結晶には欠陥が多く含まれているので、期待される性能を十分に発揮できていません。
欠陥を低減するためには、欠陥分布情報を結晶成長条件にフィードバックすることが必要不可欠であり、欠陥を正確に
非破壊で検出・分類する技術が強く求められています。
 JFCCは、GaN結晶に含まれる様々な欠陥を短い測定時間且つ非破壊で検出するX線トポグラフィ観察法を確立し、
欠陥種類と大面積にわたる各種欠陥の分布を正しく特定することに成功しました。
本成果を利用することで、大面積の欠陥情報を正確に結晶成長にフィードバックしGaN結晶の低欠陥化が加速されます。


 詳細は下記JFCCホームページに掲載しています。
⇒  http://www.jfcc.or.jp/ からプレスリリースをご覧下さい。
 
 本件に関するお問合せ先
   ファインセラミックスセンター 研究企画部
   TEL  :052-871-3500
   FAX   :052-871-3599
   e-mail :ressup@※





 トピックス3■ 第24回ナノ構造研究所材料計算セミナー開催のご案内【8月7,8日開催】



 ナノ構造研究所の活動の一環として材料計算セミナーを開催いたします。
 今回は、非常に盛況な講演となりました第22回材料計算セミナーの講師である泉富士夫博士を再び講師とし、
同氏が開発された粉末構造解析・三次元可視化システムRIETAN-FP・VENUSなどを利用した粉末構造解析技術に関する講演とPC (Windows)を使った実習を催します。
 ご参加は先着順となりますので、お早めにお申し込み下さい。
なお、本講演は第22回材料計算セミナーのアンコール講演となっており、講義の内容は前回と同様です。


○開催概要

開催日時: 2018年8月7日(火) 13:30〜(受付開始:13:00)/8月8日(水)9:30〜

開催場所: 一般財団法人ファインセラミックスセンター 研修室 

講  師: 泉 富士夫 先生 *JFCC客員研究員(2018年度より)

定  員: 60名(先着順)

参 加 費: 無 料

共 催:文部科学省科学研究費助成事業 新学術領域研究「複合アニオン化合物の創製と新機能」

申込方法:氏名、所属・連絡先(Eメール)・参加希望(講義・実習)を明記して、電子メールで申込みください。
        申し込み先 担当 田口 e-mail :a_taguchi@
                        (※@の後ろに jfcc.or.jp をつけてご送信ください。)

プログラム:8月7日(火)
      13:00  受付開始

      13:30  開会挨拶 ナノ構造研究所 計算材料グループ グループ長 森分博紀

      13:40  講義「粉末回折データの解析技術― リートベルト法」
           講義「粉末回折データの解析技術― パターン分解、未知構造解析、MEM」

      17:00  終了予定

      8月8日(水)
       9:30   Windows機を用いた実習

      12:00  昼休み(昼食は各自でご用意ください)

      13:00  Windows機を用いた実習

      17:00  終了予定


この内容は下記JFCCホームページにも掲載しています。

⇒ http://www.jfcc.or.jp/26_event/#24nano_keisan



当システムに関するお問い合わせはE-mail:homepage@まで。
(※メール発信は@の後ろに jfcc.or.jp を付けて送付ください)


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