電子ビーム（EB）-PVDは蒸着原料を電子ビームで直接加熱･蒸発させることにより、従来技術では困難であった高融点セラミックスの高速成膜が可能なコーティング方法

電子ビームPVD装置

ジルコニア等の高融点酸化物セラミックスを1分間に数 μmの堆積速度でコーティング可能

・電子銃　　　　最高出力150 kW
・蒸着源　　　　2基（φ63 ㎜ 2基）
・基板サイズ　　最大φ100 ㎜×100 ㎜L
　　　　　　　　5 kgまで
・基板加熱温度　最高1100 ℃
・基板回転速度　0～30 rpm
・到達真空度　　10^-4 Pa

ダブル電子ビームPVD装置

高度な組成制御が必要な複合酸化物層、傾斜組成層などの形成が可能

・電子銃　　　　最高出力100 kW1基
　　　　　　　　＋30 kW1基
・蒸着源　　　　2基（φ40 ㎜ 2基）
・基板サイズ　　最大□50 ㎜
・基板加熱温度　最高1300 ℃
・基板回転速度　0～30 rpm
・到達真空度　　10^-4 Pa