R-30
2018

気相合成ガス分離膜のスケールアップ

・基材の大型化、膜面積の増大に伴い、チャンバー内で原料濃度が不均一化
・チャンバー内で大量の粉末が生成し、配管の詰まりが発生
・膜の不均質化により、ガス分離特性が低下

・原料供給管及び排気管の多管化による成膜圧力の安定化
・バブラーの複数配置による原料濃度均質化とキャリアガス大流量化の抑制
・チューブ炉の3ゾーン化によるチャンバー内温度分布を縮小化

・成膜時におけるチャンバー内の粉末生成を抑制
・長尺多孔質基材上の膜を均質化
・成膜時間短縮に伴う薄膜化により、ガス透過率、選択性を両立

不均質な原料濃度分布でつくられた分離膜

対向拡散CVDにおけるスケールアップ課題

長尺基材用対向拡散CVDの概略図

分離膜の長尺化、多数本同時成膜による分離膜モジュール製造コストの低減

特開2017-179431

謝辞

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本研究は、NEDO 「二酸化炭素原料化基幹化学品製造プロセス技術開発」にて実施したものである

未来社会を創出する革新材料開発と先端解析技術