2012-1

レーザーを用いた高速CVD技術

・レーザー援用でCVDの成膜速度が数百倍
・微細構造制御性に優れた厚膜コーティング技術

CVDは、高品質膜を得られるプロセスとして広く用いられているが、一般的な成膜速度は１時間に数μm程度で、薄膜材料にのみ利用されてきた。

レーザー導入によってCVDの成膜速度を飛躍的に増大させ、工具用コーティング、遮熱コーティング等の厚膜プロセスとして利用する。

(1)	アルミナ、イットリア、YSZなどの酸化物コーティングを数百μm/hの成膜速度で成膜
(2)	過飽和度の高い原料ガスの利用により、柱状、羽毛状などの特異形状膜を合成可能
(3)	表面局所加熱により、成膜中の基材温度の低減を実現

図1. レーザーCVD装置の概略と成膜中の様子

図2. レーザーCVDによる羽毛状チタニア膜
（成膜速度1200μm/h）

低温/高速成膜による
CVDの適用分野の大幅な拡大

サーメット、低融点基材への成膜技術

謝辞：本研究はNEDO委託事業の一部として実施したものである。