R-21
2016

分離膜低欠陥成膜手法の開発

水素透過率と水素選択透過性を同時に向上させることができる低欠陥成膜手法を開発

水素＋酸素混合ガスは爆鳴気であり、爆発限界以下まで分離精製する必要があるが、分子径差が小さく、透過率と選択性の両立が困難であった

分離膜の成膜時間を短縮して膜厚を薄くし、且つ分離活性層の欠陥生成を抑制する

(1)　水素透過率と水素選択透過性を同時に向上
(2)　必要な処理は分離膜合成前の水素還元処理のみ
(3)　ゼオライトと同等以上の低温水素透過率を実現

水素／酸素分離膜の構造

水素／酸素分離膜の断面TEM像と成膜手法

分離膜欠陥抑制のメカニズム

酸化物系分離膜の合成

特許

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特許6430089、特願2014-283864、特願2014-283865

謝辞

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本研究は、NEDO「グリーンサスティナブルケミカル基盤技術開発～革新的触媒～」の一部として実施したものである