R-26
2016

金属塩アルコール溶液を原料とした静電噴霧CVDプロセスの開発

静電噴霧を用いて金属塩アルコール溶液を原料供給し、レーザーを援用することでZnO膜の成膜に成功した

通常、熱レーザーCVDは基板をレーザーで加熱し、原料ガスを供給することにより成膜を行う。原料には反応性が高い有機金属化合物が用いられるが、原料コストが高いことが課題である

金属塩アルコール溶液を原料とした静電噴霧レーザーCVDによるセラミックス膜の成膜プロセスを開発する

金属塩アルコール溶液を原料とし静電噴霧を原料供給としたレーザーCVDにより結晶性ZnO膜を合成した

成膜速度:５～10 μｍ/h

(002)配向, 微構造：針状晶または柱状晶

＊有機物添加により微構造制御可能

レーザーを援用した静電噴霧CVDの模式図

静電噴霧レーザーCVDによるZnO膜
(a) レーザー照射なし (b) 80W (c) 80W表面
(d)80W:有機物添加

大気圧下でのCVD低コストプロセス